| 학습유형 | |
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| 학습시작일 |
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| 학습기간 |
1개월 |
| 수료기준 | 진도 80% 이상 , 시험 0회 , 과제 1회 상세보기 |
| 교육비정가 | 117,040원 |
| 실결제금액 | 교육원 문의 |
| 과정 소개 | 이 교육과정은 반도체 제조 공정의 기본 개념부터 최신 기술 동향까지 체계적으로 학습할 수 있도록 구성되었습니다. 반도체 8대 공정의 원리와 실무 적용 사례를 통해 제조 현장의 이해도를 높이고, 최신 기술 변화를 파악할 수 있도록 돕습니다. |
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| 학습 대상 | 1. 반도체 제조 공정에 대한 기초 지식을 습득하고자 하는 신입 엔지니어 및 기술직 종사자 2. 반도체 관련 부서에서 공정 관리와 개선을 담당하는 실무자 및 관리자 3. 반도체 산업의 최신 기술과 공정 동향을 파악하고자 하는 연구개발 인력 및 기술 교육 담당자 |
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| 학습 목표 | 1. 반도체의 정의와 제조 공정 개요를 이해하고, 주요 공정의 역할과 상호작용을 설명할 수 있다. 2. Photo, Dry Etch, CVD, Metal 등 8대 공정의 원리와 최신 기술 동향을 이해하고, 실무에 적용할 수 있다. 3. 반도체 제조 공정의 최신 트렌드와 기술적 변화에 대해 파악하고, 공정 개선과 문제 해결 능력을 향상할 수 있다. |
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